捷佳偉創(chuàng):射頻微晶P高速率高晶化率鍍膜工藝再獲突破2023-08-03 20:24瀏覽數(shù):179次
近日,捷佳偉創(chuàng)常州HJT中試線(xiàn)成功研發(fā)出具有行業(yè)先進(jìn)水平的射頻(RF)微晶P工藝,微晶P薄膜沉積速率超過(guò)2埃/秒,同時(shí)晶化率穩(wěn)定在50%以上。常州中試線(xiàn)制備的基于雙面微晶的12BB異質(zhì)結(jié)電池平均效率達(dá)到25.1%(德國(guó)ISFH(哈梅林)標(biāo)準(zhǔn)),電池良品率穩(wěn)定在98%以上。 射頻(RF)微晶P的高速高質(zhì)量沉積,一直是困擾異質(zhì)結(jié)大產(chǎn)能板式PECVD的技術(shù)難點(diǎn),通過(guò)本次技術(shù)突破,捷佳偉創(chuàng)的大產(chǎn)能射頻板式PECVD預(yù)計(jì)將比市面上主流設(shè)備減少1-2個(gè)微晶P腔體。射頻(RF)微晶P設(shè)備工藝均勻性達(dá)到6%以?xún)?nèi),穩(wěn)定性和重復(fù)性均在中試線(xiàn)量產(chǎn)設(shè)備上得到充分驗(yàn)證,達(dá)到行業(yè)先進(jìn)技術(shù)水平。
免責(zé)聲明:Gesse蓋錫咨詢(xún)力求提供的信息準(zhǔn)確、信息所述內(nèi)容及觀(guān)點(diǎn)的客觀(guān)公正,但并不保證其是否需要進(jìn)行必要變更。Gesse蓋錫咨詢(xún)提供的信息僅供客戶(hù)決策參考,并不構(gòu)成對(duì)客戶(hù)決策的直接建議,客戶(hù)不應(yīng)以此取代自己的獨(dú)立判斷,客戶(hù)做出的任何決策與Gessey蓋錫咨詢(xún)無(wú)關(guān)。本報(bào)告版權(quán)歸Gessey蓋錫咨詢(xún)所有,為非公開(kāi)資料,僅供Gessey蓋錫咨詢(xún)客戶(hù)自身使用;本文為Gessey蓋錫咨詢(xún)編輯,如需使用,請(qǐng)聯(lián)系news@gessey.com申請(qǐng)授權(quán),未經(jīng)Gessey蓋錫咨詢(xún)書(shū)面授權(quán),任何人不得以任何形式傳播、發(fā)布、復(fù)制本報(bào)告。Gessey蓋錫咨詢(xún)保留對(duì)任何侵權(quán)行為和有悖報(bào)告原意的引用行為進(jìn)行追究的權(quán)利。 |